Mit solchen Modellen lassen sich dann die Auswirkungen der statistischen Technologieparameterschwank... und parasitärer Effekte auf das Schaltungsverhalten bestimmen.
Darüber hinaus werden die Abweichungen zwischen den Masken und den durch sie erzeugten Strukturen auf der Halbleiterscheibe immer wichtiger.
Hier leisten insbesondere die Lithographiesimulationsprog... des IISB entscheidende Beiträge zur Vorhersage dieser Effekte und zur Optimierung von Masken und Prozessen.
www.mikroelektronik.fraunhofer.deSuch models can be used to determine the effects of statistical technological parameter fluctuations and parasitic effects on circuit behavior.
Besides this the deviations between the mask and the structures they create on the wafer get ever more important.
Especially the lithography simulation programs developed at IISB strongly contribute to the prediction of these effects and to the optimization of masks and processes.
www.mikroelektronik.fraunhofer.deVoulez-vous ajouter des mots, des phrases ou des traductions ?
Proposez de créer une nouvelle entrée pour un mot.Vous pouvez indiquer ici une erreur apparue dans cet article de PONS ou bien proposer une amélioration :
Comment puis-je reprendre mes traductions dans l'entraineur de vocabulaire ?
Attention : Les mots de la liste de vocabulaire ne sont disponibles qu'à partir de ce navigateur Internet. À partir du moment où cette liste sera copiée dans votre entraineur de vocabulaire, elle sera disponible de partout.